河南专业石英堵厂家

析晶通常发生在石英坩埚的表层，按照中国石英玻璃行业标准规定，半导体工业用石英玻璃在1400℃±5℃下保温6小时，其析晶层的平均厚度应为＜100μm ，在100μm之内的析晶是属于正常的。严重的析晶对拉单晶的影响很大，内壁发生析晶时有可能破换坩埚内壁原有的涂层，这将导致涂层下面的气泡层和熔硅发生反应，造成部分颗粒状氧化硅进入熔硅内，使得正在生长中的晶体结构发生变异而无法正常长晶。析晶将减薄石英坩埚原有的厚度，降低了坩埚的强度容易引起石英坩埚的变形。

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需高温使用的石英玻璃，使用前必须擦拭干净。可以用10%的氢氟酸或洗液浸泡，然后用高纯水清洗或酒精处理。操作时应戴细线手套，不允许用手直接触及石英玻璃；高温下允许连续使用石英玻璃制品，这对延长石英玻璃的寿命和提高耐温性能是有好处的。反之，高温下间歇使用石英玻璃制品，其使用次数是有限的；

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石英仪器在生活中的作用日益突出，以充分发挥其使用价值，我们做好保护工作过程中的使用。对这类产品的清洗更需要投入相当大的努力，只为清洗操作是按照一定的标准，以保障良好的性能。首先，充分考虑到正确的姿势时应采取的石英仪器。一般只能在与两侧头发的手指接触，这是为了避免手指接触到光的表面，使用效果有一定的影响。同时注意轻轻，防止外部力量对比的颜色板的影响，受力后损伤。在材料的腐蚀与溶液，在石英仪器不会长期持有。但无法将仪器放在火焰或电炉烘烤加热或干燥箱。

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由于是水解过程制备，石英含有较多的水分，羟基（OH-）大约为500-1500ppm，并含有溶解在玻璃结构中的H2。因为羟基的存在，玻璃的耐热性变差，且对红外区域吸收能力较强，该类玻璃不适合应用于半导体的热处理器材以及光纤。但是由于羟基的存在，玻璃的紫外光透过率高，且能长时间的接受紫外激光的照射，所以适用于做光刻掩膜版的基板和激光光刻系统内的光学透镜。

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主要用于制造耐火材料——硅砖，冶炼硅质合金（硅铁、硅锰、硅铬）和作熔剂。质纯的可制结晶硅。结晶硅是生产单晶硅的主要原料，又可制硅铝和有机硅。