析晶通常发生在石英坩埚的表层，按照中国石英玻璃行业标准规定，半导体工业用石英玻璃在1400℃±5℃下保温6小时，其析晶层的平均厚度应为＜100μm ，专业石英片在100μm之内的析晶是属于正常的。严重的析晶对拉单晶的影响很大，重庆石英片内壁发生析晶时有可能破换坩埚内壁原有的涂层，这将导致涂层下面的气泡层和熔硅发生反应，造成部分颗粒状氧化硅进入熔硅内，使得正在生长中的晶体结构发生变异而无法正常长晶。析晶将减薄石英坩埚原有的厚度，降低了坩埚的强度容易引起石英坩埚的变形。

因为石英玻璃是由单纯（SiO4）四面体组成的网络骨架，而硅氧气键强很大，结构严密，专业石英片故机械强度、耐热功能很高，热胀大系数很小，化学安稳性也很好，专业石英片粘度大，软化点也很高，因为网络中无填隙的阳离子，所以密度小、导电率、介质损失也很小。

由于是水解过程制备，石英含有较多的水分，羟基（OH-）大约为500-1500ppm，并含有溶解在玻璃结构中的H2。因为羟基的存在，玻璃的耐热性变差，且对红外区域吸收能力较强，专业石英片该类玻璃不适合应用于半导体的热处理器材以及光纤。但是由于羟基的存在，玻璃的紫外光透过率高，重庆石英片且能长时间的接受紫外激光的照射，所以适用于做光刻掩膜版的基板和激光光刻系统内的光学透镜。

专业石英片可作重要的建筑基石。碎石可作道路充填石及铁路道砟。砂与沥青混合可铺路，石英制品还可作硅酸盐水泥的校正材料。重庆石英片 也可作沙子水泥配料，加气混凝土，普通制品等。